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heartopen新蟲 (小有名氣)
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[交流]
【求助】直流磁控濺射AlN薄膜的工藝條件，比如氮氣流量、比例，鍍膜氣壓？？靶電壓？ 已有6人參與
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| 小弟是在讀碩士，用直流磁控濺射方法制備氮化鋁薄膜，由于是新買來的儀器，搞不清鍍膜的工藝條件，比如N2流量，以及N2和Ar的比例，還有鍍膜氣壓？？？靶電壓？？？ 小弟摸不準(zhǔn)，最近做了一些實驗，鍍膜一個小時，居然幾乎沒有薄膜生長，很薄的一層，做XRD測試，觀察不到衍射峰，不知道如何控制工藝條件才能生長比較快？？望各位指點，小弟跪求�。�！ |
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380677864
木蟲 (正式寫手)
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2樓2011-03-03 21:52:33
heartopen
新蟲 (小有名氣)
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