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[交流]
【求助】請問a-Si:H薄膜中H的原子百分比如何測量?
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H含量在a-Si:H薄膜中有重要作用,其含量不能太高也不能太小,10 at %貌似是最佳的,怎樣測量它的原子百分比呢? 謝謝! |
非晶硅 |
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氫原子含量很多緊密測試設備測試不了,在于氫原子是1價原子而且質(zhì)量太輕,測試設備達不到緊密測試要求,比如SIMS,XPS等等。 對于非晶硅薄膜中的氫含量測量,通用方法是用紅外譜測試。在非晶硅薄膜中氫個硅原子結合有多種方式,通過計算紅外譜中的特定峰,可以計算出氫含量的大概數(shù)值。 請參考street的非晶硅書,里面有描述計算方式。 用純硅烷通過PECVD方法制備非晶硅薄膜,硅烷分解形成非晶硅薄膜,其中也是含有氫原子的,含量的高低取決與制備條件。 |
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我們現(xiàn)在用的CVD配方,跟Street書上一致,還參考了師兄以前在國外的配方(同樣型號的CVD設備),所以膜的質(zhì)量應該可以從紅外光譜中反映出來。 厚度我們還沒有測量過,今天打算長3片后,測量紅外和臺階儀。從文獻中估計,我們的長膜速度差不多在10nm/min,長30min看下能不能出來明顯的紅外特征。如果沒有,就延長長膜時間。 具體的電學性質(zhì)(如霍爾遷移率、載流子濃度、電導率等)貌似只能用霍爾測試儀測量(我們現(xiàn)在長的是本征膜,霍爾測試應該可以測出來)。光學性質(zhì)(如介電常數(shù)、吸收系數(shù)等)打算用橢偏儀測量。但這兩個測試都特別貴,所以我們把它們安排在最后,等長膜工藝調(diào)得穩(wěn)定后再測量。 對了,非晶硅薄膜缺陷如何測量呢?這些缺陷能不能通過電學參數(shù)反映出來呢? 非常感謝! |
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