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380677864木蟲 (正式寫手)
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[求助]
做等離子體物理的進(jìn)
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我的實(shí)驗(yàn)課題是PECVD技術(shù)制備碳納米管。在實(shí)驗(yàn)中，采用氫氣、氮?dú)饣旌蠚怏w的等離子體（射偏電源激發(fā)）刻蝕鍍?cè)诠杌咨系逆嚤∧�，使鎳薄膜裂解為納米顆粒。以下是我不明白的幾個(gè)問題，想向您求助。 1.在等離子體中主要存在的氫氣、氮?dú)獾姆肿�，還是氮?dú)渥杂苫c氫離子、電子？他們哪個(gè)對(duì)刻蝕起主要作用？具體是怎么作用的啊？ 2.刻蝕過程是單純的物理濺射還是離子增強(qiáng)的等離子體刻蝕？ 3.如何分析各種成分的刻蝕速率？能否套用氟刻蝕硅的模式，離子的質(zhì)量與離子能量決定刻蝕速率？ |
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2樓2011-04-18 23:21:20
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