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lulu0359696金蟲 (小有名氣)
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[求助]
XRD,吸附與脫附,催化劑孔徑方面的幾個求助
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請教催化方面的幾個問題,具體如下: 1.XRD衍射峰強度會隨著金屬氧化物負載量的增加而增強嗎,為什么?若XRD衍射峰強度增強,說明催化劑的晶型結(jié)構(gòu)發(fā)生了哪些變化呢? 2.氣體在催化劑表面的吸附和脫附。若幾種催化劑相比,有一種催化劑對氣體的脫附峰溫度低,能說明哪些問題呢? 3.負載型催化劑,隨著氧化物負載量的增大,催化劑孔徑會出現(xiàn)先增大,然后減小的現(xiàn)象,該如何解釋? 謝謝! |
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榮譽版主 (職業(yè)作家)
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1.XRD衍射峰強度會隨著金屬氧化物負載量的增加而增強嗎,為什么?若XRD衍射峰強度增強,說明催化劑的晶型結(jié)構(gòu)發(fā)生了哪些變化呢? 首先要利用XRD衍射峰強度這個信息,必須要有個參比,不然憑空說是毫無意義的,如樓主說的金屬氧化物負載催化劑,如果是負載物氧化物峰相對載體峰明顯有所增強,這說明負載的氧化物晶體量增加,但如果是載體和負載物都增強但比值變化不大,那就需要引入第三個參比才能有效說明問題。 XRD峰強度增加(如果量沒變)則說明晶體完美度增加,如果負載量增加的,可能晶體量增加和完美度增加兼而有之。 2.氣體在催化劑表面的吸附和脫附。若幾種催化劑相比,有一種催化劑對氣體的脫附峰溫度低,能說明哪些問題呢? 說明催化劑對該氣體吸附較弱,如果該氣體是產(chǎn)物組分,說明該催化劑更傾向于形成該物質(zhì)。如果氣體是反應物組分,則可能會致使催化劑對該氣體活化不夠。 3.負載型催化劑,隨著氧化物負載量的增大,催化劑孔徑會出現(xiàn)先增大,然后減小的現(xiàn)象,該如何解釋? 負載量較低的情況下,可能會改變載體孔內(nèi)的靜電場,致使孔尺寸有所增加,當然也有可能是負載過程致使孔道有所增加(水熱、焙燒等因素),負載量進一步提升后,形成物種會堵塞孔道,從而造成孔徑減少!! |
木蟲 (著名寫手)
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1. XRD衍射測量的是晶體結(jié)構(gòu)的衍射峰,如果衍射峰加強,說明物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu)多了,也就是說可能的金屬氧化物負載量上去了。但前提是你確定這些衍射峰是金屬氧化物的衍射峰。 2. 某一催化劑對氣體的吸附溫度低,可能是因為它對這種氣體的吸附活性中性弱,可以說,這個催化劑在的某個性質(zhì)較弱。比如,分子篩對氨氣的吸附-脫附峰出現(xiàn)在低溫區(qū),一般認為這是分子篩的弱酸位或者中強酸位(具體是什么性質(zhì),要看分子篩類型及溫度區(qū)域)。 3. 這個我不是很懂,同等高人解釋。 |
金蟲 (小有名氣)
捐助貴賓 (著名寫手)
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2樓回答的好,我說一下我遇到的跟第三個相似的一個情況,在對負載金屬的后處理中,焙燒,H2等對基體的的孔徑,比表面積有一定影響;你的催化劑可能的情況是在對負載金屬的后處理中,基體與負載金屬發(fā)生了相關的作用;隨著金屬量的提高有可能就堵塞了孔道。 后期對負載金屬的熱處理對基體會產(chǎn)生很大的影響,如果你用到氫氣處理對催化劑孔徑的確是有很大影響。 個人見解 |

木蟲 (著名寫手)

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木蟲 (著名寫手)
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