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lulu0359696金蟲 (小有名氣)
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[求助]
XRD,吸附與脫附,催化劑孔徑方面的幾個(gè)求助
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請教催化方面的幾個(gè)問題,具體如下: 1.XRD衍射峰強(qiáng)度會隨著金屬氧化物負(fù)載量的增加而增強(qiáng)嗎,為什么?若XRD衍射峰強(qiáng)度增強(qiáng),說明催化劑的晶型結(jié)構(gòu)發(fā)生了哪些變化呢? 2.氣體在催化劑表面的吸附和脫附。若幾種催化劑相比,有一種催化劑對氣體的脫附峰溫度低,能說明哪些問題呢? 3.負(fù)載型催化劑,隨著氧化物負(fù)載量的增大,催化劑孔徑會出現(xiàn)先增大,然后減小的現(xiàn)象,該如何解釋? 謝謝! |
好帖子收集 |
金蟲 (小有名氣)
木蟲 (著名寫手)
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1. XRD衍射測量的是晶體結(jié)構(gòu)的衍射峰,如果衍射峰加強(qiáng),說明物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu)多了,也就是說可能的金屬氧化物負(fù)載量上去了。但前提是你確定這些衍射峰是金屬氧化物的衍射峰。 2. 某一催化劑對氣體的吸附溫度低,可能是因?yàn)樗鼘@種氣體的吸附活性中性弱,可以說,這個(gè)催化劑在的某個(gè)性質(zhì)較弱。比如,分子篩對氨氣的吸附-脫附峰出現(xiàn)在低溫區(qū),一般認(rèn)為這是分子篩的弱酸位或者中強(qiáng)酸位(具體是什么性質(zhì),要看分子篩類型及溫度區(qū)域)。 3. 這個(gè)我不是很懂,同等高人解釋。 |
捐助貴賓 (著名寫手)
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2樓回答的好,我說一下我遇到的跟第三個(gè)相似的一個(gè)情況,在對負(fù)載金屬的后處理中,焙燒,H2等對基體的的孔徑,比表面積有一定影響;你的催化劑可能的情況是在對負(fù)載金屬的后處理中,基體與負(fù)載金屬發(fā)生了相關(guān)的作用;隨著金屬量的提高有可能就堵塞了孔道。 后期對負(fù)載金屬的熱處理對基體會產(chǎn)生很大的影響,如果你用到氫氣處理對催化劑孔徑的確是有很大影響。 個(gè)人見解 |

木蟲 (著名寫手)
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