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[交流]
請(qǐng)問(wèn)做CVD用的硅片如何處理，是直接滴量子點(diǎn)還是將硅片用氨基酸處理后滴加量子點(diǎn)？ 已有3人參與
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我在做化學(xué)氣相沉積時(shí)，遇到了如何處理硅片的問(wèn)題。 用于做沉積底物的硅片，在滴量子點(diǎn)之前需要用氨基酸處理嗎？ 或者各位有什么高見(jiàn)，或者給予一般的處理方法。非常感謝 |
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堂堂csu
木蟲(chóng) (正式寫(xiě)手)
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4樓2011-05-26 08:24:27
2樓2011-05-23 10:54:44
★ ★
小木蟲(chóng)(金幣+0.5):給個(gè)紅包，謝謝回帖
wandaohzl(金幣+1): 鼓勵(lì)交流 2011-05-29 11:12:39
小木蟲(chóng)(金幣+0.5):給個(gè)紅包，謝謝回帖
wandaohzl(金幣+1): 鼓勵(lì)交流 2011-05-29 11:12:39
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以下是我們實(shí)驗(yàn)室清洗硅片的標(biāo)準(zhǔn)步驟，洗完之后在上面CVD生長(zhǎng)硅線都是可以的，我想你的需要應(yīng)該也能滿足！ 1.丙酮超聲 5-10min； 2.酒精超聲 5-10min； 3.去離子水超聲 5-10min； 4.水：氨水：雙氧水=10:1:2的溶液中，70℃煮10min； 5.鹽酸：雙氧水：水=1:1:6的溶液中，70℃煮10min； （以上兩步中硅片最好不要重疊） 6.氫氟酸：水=1:18的溶液中，浸泡30s； 7.用去離子水沖洗之后放置于酒精中（不能貯藏太久，還是會(huì)臟的），要用時(shí)用氮?dú)獯蹈伞?br /> 希望對(duì)你有所幫助  PS：氨水好難聞的說(shuō)~~~  裝氫氟酸溶液的時(shí)候要用塑料燒杯，并注意安全（強(qiáng)腐蝕性滴  ）[ Last edited by gl_zju on 2011-5-25 at 21:26 ] |
3樓2011-05-25 21:21:40
★ ★
小木蟲(chóng)(金幣+0.5):給個(gè)紅包，謝謝回帖
wandaohzl(金幣+1): 鼓勵(lì)交流 2011-05-29 11:12:51
小木蟲(chóng)(金幣+0.5):給個(gè)紅包，謝謝回帖
wandaohzl(金幣+1): 鼓勵(lì)交流 2011-05-29 11:12:51
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（1）H2O2和NH4OH的堿性溶液，通過(guò)H2O2的強(qiáng)氧化和NH4OH的溶解作用，使有機(jī)物沾污變成水溶性化合物，隨去離子水的沖洗而被排除。 （2）H2O2和HCL的酸性溶液，它具有極強(qiáng)的氧化性和絡(luò)合性，能與氧以前的金屬作用生成鹽隨去離子水沖洗而被去除。被氧化的金屬離子與CL-作用生成的可溶性絡(luò)合物亦隨去離子水沖洗而被去除。 （3）氫氟酸溶液是用來(lái)去除硅片表面的氧化硅層的。 具體你可以去查看一下“半導(dǎo)體硅片RCA清洗技術(shù)”~ [ Last edited by gl_zju on 2011-6-1 at 08:46 ] |
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堂堂csu5樓2011-05-26 11:55:04
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