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e-beam lithography設(shè)備
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最近看文獻(xiàn)中會(huì)經(jīng)常用到e-beam lithograph技術(shù)來在Si片pattern 其中會(huì)用到e-beam exposure， 請問大家這一步用什么樣的設(shè)備來實(shí)現(xiàn)呢 用傳統(tǒng)的SEM的電子束可以嗎？ 有個(gè)疑問就是如果需要e-beam exposure某些區(qū)域獲得特殊的形狀 那最初用SEM在掃描整體獲得圖像時(shí) 那樣品不是已經(jīng)都被e-beam照射過了嗎？ 謝謝大家�。。� |
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xjajx
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2樓2011-06-03 20:05:54
terav
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【答案】應(yīng)助回帖
★
xjajx(金幣+1): 2011-06-04 17:20:16
wprison(金幣+5): 謝謝交流，第二個(gè)問題還是不太明白 能再詳細(xì)點(diǎn)嗎 那SEM獲得圖像時(shí)的整體曝光不會(huì)影響后面的pattern嗎？ 2011-06-06 17:29:42
xjajx(金幣+1): 2011-06-04 17:20:16
wprison(金幣+5): 謝謝交流，第二個(gè)問題還是不太明白 能再詳細(xì)點(diǎn)嗎 那SEM獲得圖像時(shí)的整體曝光不會(huì)影響后面的pattern嗎？ 2011-06-06 17:29:42
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做這個(gè)的機(jī)器一般叫ebeam writer，電子束曝光機(jī)。國內(nèi)很多的大學(xué)研究所都有，你自己隨便google一下就知道了。 1）你的第一個(gè)問題，可以用SEM的機(jī)器來做嗎？答案是可以的，不過需要額外裝第三方的軟件來控制電子束。 2）你的第二個(gè)問題，就是用SEM來看的時(shí)候是不是就已經(jīng)曝光了。對，SEM是電子束掃描視場里的每一行然后生成圖像。但是，光刻模式并不是每一行都掃描，而是利用軟件來控制哪里掃描哪里不掃描，相應(yīng)的也就形成了圖形。 具體的可以google一些電子束曝光的基本原理，流程看看。 |
3樓2011-06-04 00:49:33
terav
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4樓2011-06-08 01:08:42
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【答案】應(yīng)助回帖
★
yingli09(金幣+1): 謝謝參與交流！ 2011-06-12 16:57:01
yingli09(金幣+1): 謝謝參與交流！ 2011-06-12 16:57:01
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我回答一下第二個(gè)和第三個(gè)問題吧 使用常規(guī)商用電子顯微鏡也可以實(shí)現(xiàn)電子束曝光，但是需要在原有電鏡基礎(chǔ)上添加一些組件才可以。國內(nèi)外在上個(gè)世紀(jì)70年代開始就有人研究了，設(shè)備好的話現(xiàn)在也可以達(dá)到和商用電子束曝光系統(tǒng)差不多的精度。 正常說來在曝光系統(tǒng)中是有一個(gè)工件臺(tái)的，你所要曝光的樣品的位置是精確得知的，此外在樣品上還需預(yù)先設(shè)置好幾個(gè)標(biāo)記，這幾個(gè)標(biāo)記上的膠就是用來犧牲的，通過這幾個(gè)標(biāo)記定位了之后，電子束就只在需要曝光的時(shí)候進(jìn)行對樣品的掃描，否則可以控制其不進(jìn)行掃描，這樣就不會(huì)造成對樣品的破壞了。 |
5樓2011-06-11 16:09:40
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