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e-beam lithography設(shè)備
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最近看文獻(xiàn)中會(huì)經(jīng)常用到e-beam lithograph技術(shù)來(lái)在Si片pattern 其中會(huì)用到e-beam exposure, 請(qǐng)問(wèn)大家這一步用什么樣的設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)呢 用傳統(tǒng)的SEM的電子束可以嗎? 有個(gè)疑問(wèn)就是如果需要e-beam exposure某些區(qū)域獲得特殊的形狀 那最初用SEM在掃描整體獲得圖像時(shí) 那樣品不是已經(jīng)都被e-beam照射過(guò)了嗎? 謝謝大家。! |
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至尊木蟲 (著名寫手)
銅蟲 (初入文壇)
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做這個(gè)的機(jī)器一般叫ebeam writer,電子束曝光機(jī)。國(guó)內(nèi)很多的大學(xué)研究所都有,你自己隨便google一下就知道了。 1)你的第一個(gè)問(wèn)題,可以用SEM的機(jī)器來(lái)做嗎?答案是可以的,不過(guò)需要額外裝第三方的軟件來(lái)控制電子束。 2)你的第二個(gè)問(wèn)題,就是用SEM來(lái)看的時(shí)候是不是就已經(jīng)曝光了。對(duì),SEM是電子束掃描視場(chǎng)里的每一行然后生成圖像。但是,光刻模式并不是每一行都掃描,而是利用軟件來(lái)控制哪里掃描哪里不掃描,相應(yīng)的也就形成了圖形。 具體的可以google一些電子束曝光的基本原理,流程看看。 |
銅蟲 (初入文壇)
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這么說(shuō)吧,寫pattern的時(shí)候就不會(huì)整體曝光了。pattern的形狀由你之前設(shè)計(jì)決定。機(jī)器根據(jù)你的設(shè)計(jì)文件把你的pattern轉(zhuǎn)移到光刻膠上。 Lithography和SEM的兩種方式是完全不同的模式,根本就不會(huì)在一個(gè)wafer先做這個(gè)再做那個(gè)。所以,基本上不存在先做哪個(gè)對(duì)另一個(gè)的影響。 |
銀蟲 (小有名氣)
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我回答一下第二個(gè)和第三個(gè)問(wèn)題吧 使用常規(guī)商用電子顯微鏡也可以實(shí)現(xiàn)電子束曝光,但是需要在原有電鏡基礎(chǔ)上添加一些組件才可以。國(guó)內(nèi)外在上個(gè)世紀(jì)70年代開始就有人研究了,設(shè)備好的話現(xiàn)在也可以達(dá)到和商用電子束曝光系統(tǒng)差不多的精度。 正常說(shuō)來(lái)在曝光系統(tǒng)中是有一個(gè)工件臺(tái)的,你所要曝光的樣品的位置是精確得知的,此外在樣品上還需預(yù)先設(shè)置好幾個(gè)標(biāo)記,這幾個(gè)標(biāo)記上的膠就是用來(lái)犧牲的,通過(guò)這幾個(gè)標(biāo)記定位了之后,電子束就只在需要曝光的時(shí)候進(jìn)行對(duì)樣品的掃描,否則可以控制其不進(jìn)行掃描,這樣就不會(huì)造成對(duì)樣品的破壞了。 |
木蟲 (著名寫手)
小蟲

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