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含樹銅蟲 (初入文壇)
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[求助]
求教SnO2刻蝕的問題
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看文獻上說采用57%的HI在75度下可以以150nm/min的速度把SnO2薄膜（非ITO）給刻蝕掉，但是我200nm左右厚的薄膜放了1個小時都沒辦法成功。請教用什么方法可把SnO2薄膜給刻掉？ [ Last edited by 含樹 on 2011-7-5 at 11:23 ] |
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2樓2011-07-15 10:28:14
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