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永遠(yuǎn)的騎士金蟲 (小有名氣)
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[交流]
如何用真空蒸鍍控制2nm以下的Alq3 已有5人參與
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本人在蒸鍍過(guò)程發(fā)現(xiàn)，膜厚儀的示數(shù)很不穩(wěn)定，容易一直波動(dòng)，無(wú)法較準(zhǔn)確地判斷此時(shí)Alq3已經(jīng)蒸鍍的厚度。這可能與膜厚儀參數(shù)的設(shè)置有關(guān)系。因此，1、想請(qǐng)教一下Alq3膜厚參數(shù)的設(shè)定（density,tooling or z-factor），借以參考；2、蒸鍍時(shí)，樣品臺(tái)與Alq3的保持在怎樣的距離會(huì)更為合適？本人保持在10-15cm。 目前本人通過(guò)反復(fù)實(shí)驗(yàn)已經(jīng)可以較大致地控制Alq3的蒸鍍速率，但總感覺要控制2nm以下的厚度，難把握。因?yàn)榧词鼓ず駜x顯示了數(shù)值，但不表示蒸鍍到基片上的厚度也與此一致。希望相關(guān)專業(yè)人士指點(diǎn)迷津。 |
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2樓2011-07-13 11:46:31
mengweixin
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3樓2011-07-14 10:19:13
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7樓2016-06-27 14:47:11
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