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永遠(yuǎn)的騎士金蟲 (小有名氣)
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[交流]
如何用真空蒸鍍控制2nm以下的Alq3 已有5人參與
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本人在蒸鍍過程發(fā)現(xiàn),膜厚儀的示數(shù)很不穩(wěn)定,容易一直波動,無法較準(zhǔn)確地判斷此時(shí)Alq3已經(jīng)蒸鍍的厚度。這可能與膜厚儀參數(shù)的設(shè)置有關(guān)系。因此,1、想請教一下Alq3膜厚參數(shù)的設(shè)定(density,tooling or z-factor),借以參考;2、蒸鍍時(shí),樣品臺與Alq3的保持在怎樣的距離會更為合適?本人保持在10-15cm。 目前本人通過反復(fù)實(shí)驗(yàn)已經(jīng)可以較大致地控制Alq3的蒸鍍速率,但總感覺要控制2nm以下的厚度,難把握。因?yàn)榧词鼓ず駜x顯示了數(shù)值,但不表示蒸鍍到基片上的厚度也與此一致。希望相關(guān)專業(yè)人士指點(diǎn)迷津。 |
木蟲 (正式寫手)
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