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[求助]
求教關(guān)于金剛石膜刻蝕的問題
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RT, 采用氧離子束對(duì)CVD金剛石膜進(jìn)行刻蝕之后,在SEM圖中發(fā)現(xiàn)在晶粒上出現(xiàn)裂紋,這是為什么?(刻蝕時(shí),基底溫度為600度) 然后拉曼光譜中出現(xiàn)了一些除了金剛石特征峰之外的波包,圖中已標(biāo)出了對(duì)應(yīng)的波包的大致位置,但不知道對(duì)應(yīng)的是什么,求解釋,最好能有相關(guān)的資料或者論文。 刻蝕后1000倍SEM圖 刻蝕后Raman圖,并標(biāo)出了對(duì)應(yīng)的波包的大致位置 [ 來自科研家族 材料家族 ] [ Last edited by 季巖冰 on 2011-11-8 at 19:05 ] |
木蟲 (著名寫手)
| 呵呵 你這個(gè)比我的 更奇怪 首先。你制備金剛石的大概的參數(shù)。 比如氣源,你的金剛石的事超納米的還是納米的還是微米的 估計(jì)不是微米的 你的 摻雜否?還有 你的1000倍的SEM 看不出來東西吧。氧等離子體一般式用來得到氧終結(jié)的,不知道你用氧刻蝕有什么目的,如果你的事納米金剛石薄膜 里面的SP2相在氧等離子體的影響下很明顯。你可以看看D.M. GRUEN關(guān)于raman的分析,你的raman G峰飄逸太多了 |

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