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[求助]
急求關于多孔材料表面積之間的比較：N2吸脫附法，電化學活性表面積，電容表面積
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最近審稿人的意見讓我很頭疼，望論壇內(nèi)高人指點。萬分感謝！ 用多孔Pd材料修飾電極測電催化性質(zhì)。。 問題： 1）文章中提到了用N2吸脫附法測得的材料的表面積及孔性質(zhì)。N2吸脫附法得到的表面積是否是純Pd的表面積，還是保護劑也在內(nèi)。我的材料中有大量的保護劑存在，做N2吸脫附前并未除掉。 2）另外文章中還展示了電化學循環(huán)伏安法(CV)在H2SO4溶液中－0.45－0.4V間H吸脫附區(qū)間進行掃描，由于考慮到Pd材料的儲氫功能，所以只對H脫附區(qū)進行積分，通過得到的電量對不同Pd材料進行比較，沒有用通常文獻假設的210uC/cm2進行準確計算。請問這種做法對嗎？還是應該用其它方法？ 3）審稿人提到用上面的循環(huán)伏安圖中的雙電層區(qū)可以計算capacitive surface area,不知道該怎么計算？ 不同材料的雙電層電容常數(shù)一樣嗎？我看有的地方提到規(guī)則表面電極雙電層電容20uF/cm-2 （ a value of about 20μF/cm2, a value which is often observed for a well-defined surface electrodes such as Au(111) and Ag(111), where the roughness factor is unity），不知道對多孔Pd材料是什么值？ 4）對我這種含很大比重保護劑的多孔Pd材料來說，用這幾種方法得到的表面積有可比性嗎？ （N2吸脫附法，電化學活性表面積，以及電化學電容表面積） CV of Pd in H2SO4 |
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2樓2018-09-16 21:58:24
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