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qiuzc銀蟲 (小有名氣)
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[求助]
磁控濺射能起輝，但不能沉積
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我用射頻磁控濺射，濺射Al靶，功率試過從80W增加到200W，時間為兩小時。能起輝，但石英基片上沒任何東西。之前反應(yīng)濺射鋅靶鍍氧化鋅，能鍍出氧化鋅，但怎么都不厚，而直接濺射鋅（同一靶材），卻沒有沉積鋅。 [ Last edited by qiuzc on 2012-3-23 at 09:11 ] |
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 反應(yīng)磁控濺射 | 薄膜材料和器件表征 | 薄膜材料和器件制備 |
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【答案】應(yīng)助回帖
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感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
qiuzc: 金幣+3 2012-05-14 22:03:39
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
qiuzc: 金幣+3 2012-05-14 22:03:39
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樓主為何利用射頻源來濺射金屬Al或者Zn呢？射頻磁控濺射一般都是針對絕緣體的靶材或者導(dǎo)電性相對較差的靶材，利用同一周期內(nèi)電子比正離子速度快進(jìn)而沉積到靶材上的電子數(shù)目比正離子數(shù)目多從而建立起自偏壓對離子進(jìn)行加速實現(xiàn)靶的濺射。對于導(dǎo)電性很好的金屬靶，很難建立較高的自偏壓，正離子無法獲得足夠的能量去轟擊靶材。對于樓主說的反應(yīng)濺射的情況又可以，這是因為氧氣與金屬Zn現(xiàn)在表面發(fā)生氧化反應(yīng)形成一層ZnO半導(dǎo)體，從而可以建立足以加速正離子的自偏壓。 樓主可以用直流電源濺射金屬靶，相信200W的直流功率是足夠的！ |
3樓2012-03-24 17:36:46
foxs2 
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5樓2012-03-26 08:54:48
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