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氫氟酸刻蝕二氧化硅的反應條件
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我的材料是以5 um的硅球合成SiO2/C復合材料,想除去SiO2, 1、氫氟酸濃度 2、是否要加熱?加熱溫度? 3、需要攪拌嗎?攪拌的話用普通的磁子可以嗎,磁子會不會被腐蝕掉? 4、一定要敞口嗎?我們實驗室通風櫥是一體的,只能所有的抽風口一起開,這樣很耗電,如果敞口而且反應時間很長的話會很浪費電。 5、反應時間多長合適呢? 非常感謝! |
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