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小木蟲論壇-學術(shù)科研互動平臺 » 材料區(qū) » 無機非金屬 » 交流探討 » 旋涂對硅片的要求
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liuzhen126金蟲 (正式寫手)
清醒
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[求助]
旋涂對硅片的要求
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最近做一些高分子溶液共混，在旋涂成膜的過程中，發(fā)現(xiàn)在亮灰色硅片基底上涂的膜總是呈現(xiàn)波浪狀或者是中間同心圓輻射狀，剛開始認為沒有清洗干凈，但是清晰了好幾次都是這樣的效果。換成深藍色硅片做基地時，旋涂效果明顯改善，最起碼是肉眼看上去比較均勻。溶液濃度是10mg/mL，只有一個轉(zhuǎn)速，1500轉(zhuǎn)/分，旋涂時間60s。求解釋。 另求助：這兩種硅片有什么不同，哪里可以買到深藍色硅片。謝謝！ |
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