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請教：在制備薄膜過程中，加熱基片和后退火，原子的動能哪個大？
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請教：在磁控濺射制備薄膜過程中，如果加熱基片，濺射原子達到基片后會從基片上獲得能量進一步移動， 如果不加熱基片，而是制備完薄膜后，通過后退火，原子也可以發(fā)生移動？ 那么這兩種方式 哪種原子移動的更厲害 或者 為原子提供的遷移能更大 |
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2樓2012-07-10 21:30:03
zhangbin07
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3樓2012-07-11 03:19:25
4樓2012-07-11 08:49:15
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