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[求助]
請教:在制備薄膜過程中,加熱基片和后退火,原子的動能哪個大?
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請教:在磁控濺射制備薄膜過程中,如果加熱基片,濺射原子達到基片后會從基片上獲得能量進一步移動, 如果不加熱基片,而是制備完薄膜后,通過后退火,原子也可以發(fā)生移動? 那么這兩種方式 哪種原子移動的更厲害 或者 為原子提供的遷移能更大 |
榮譽版主 (知名作家)
新蟲 (初入文壇)

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[論文投稿]
申請回稿延期一個月,編輯同意了。但系統上的時間沒變,給編輯又寫郵件了,沒回復
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wangf9518 2026-03-17 | 4/200 |
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[考研] 286求調劑 +6 | lemonzzn 2026-03-16 | 10/500 |
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[考博] 26博士申請 +3 | 1042136743 2026-03-17 | 3/150 |
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