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問一個(gè)有關(guān)循環(huán)伏安的氧化還原峰電位的問題
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| 在同樣的條件下，同一個(gè)系列(各元素含量有所不同）材料的工作電極，做循環(huán)伏安測試，氧化峰和還原峰電位的位置是不一樣的，差的還挺大，但進(jìn)行的反應(yīng)是一樣的。請問一下可以通過峰電位的移動(dòng)來說明氧化或還原反應(yīng)進(jìn)行的難易程度么？比如氧化峰電位越正，該氧化反應(yīng)越易發(fā)生，還是電位越負(fù)，越容易發(fā)生呢？謝了！ |
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5樓2015-11-04 17:57:38
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