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[求助]
問一個有關(guān)循環(huán)伏安的氧化還原峰電位的問題
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| 在同樣的條件下,同一個系列(各元素含量有所不同)材料的工作電極,做循環(huán)伏安測試,氧化峰和還原峰電位的位置是不一樣的,差的還挺大,但進(jìn)行的反應(yīng)是一樣的。請問一下可以通過峰電位的移動來說明氧化或還原反應(yīng)進(jìn)行的難易程度么?比如氧化峰電位越正,該氧化反應(yīng)越易發(fā)生,還是電位越負(fù),越容易發(fā)生呢?謝了! |
至尊木蟲 (正式寫手)
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