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求助電鍍行業(yè)，鍍鎳裝置 已有4人參與
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本人從事電鍍行業(yè)，最近要上一套鍍鎳裝置，但對電化學(xué)原理沒有深入的研究，請問下面的描述對嗎， 電鍍是通過陰極使電鍍金屬失去電子成為陽離子，再通過電鍍池中的電鍍液使這些陽離子在陽極的待鍍金屬表面得電子形成鍍層，這就是電鍍(1)陰極過程由于鎳在電化反應(yīng)中的交換電流密度較小(Ni2+，i0為10-8～10-9A/cm2；Zn2+，i0約為10-5A/cm2；Cu2+，i0約為10-3A/cm2)，因此鎳本身具有較大的極化電阻，在單鹽鍍液中就有較大的電化學(xué)極化，獲得良好的鍍層，而且鎳分散能力好，得到的鍍層均勻，因此鍍液種類雖多，但均由單鹽組成。鍍鎳液中陽離子有Na+、Mg2+、NH4+、H+等，陰離子有SO42-、Cl-、OH-等，由于Na+、Mg2+、NH4+的電位較負，在電鍍電位下，不發(fā)生電解反應(yīng)，因此其陰極反應(yīng)Ni2++2e→Ni 2H++2e→H2↑ 生產(chǎn)中鍍液pH=3～6之間（pH值高于6時，易生成Ni（OH）2沉淀，pH值低于3時析氫嚴重），因此H+的有效濃度很低，而鍍液中Ni2+濃度很高。如當NiSO4·7H2O 350g/L時，Ni2+活度為0.0492mol/L，根據(jù)能斯特方程計算，鎳析出的平衡電位為-0.29V；當pH=6或pH=3時，按照能斯特方程式計算，析氫的平衡電位分別為-0.36V和-0.18V。H2在鎳上的超電位為0.42V（50℃，5A/dm2），析鎳的超電位為0.34V，因此鎳的實際析出電位為-0.63V，而Ph=6時析氫的實際電位為-0.78V，pH=3時析氫的實際電位為-0.60V。實際析出電位非常接近或略低于Ni2+/Ni，因此鍍鎳溶液中，析鎳的電流效率受酸度及鎳離子濃度影響較大，鎳離子濃度越高，酸度越低，析鎳電流效率越高，反之，析鎳電流效率越低。普通鍍鎳溶液中，當pH值降至2～3時，陰極析氫嚴重，鎳難以析出；在接近中性的鍍鎳液中，pH值稍有變化，電流效率變化顯著。 [ Last edited by zlin on 2012-10-7 at 21:53 ] |
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