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linberg木蟲 (正式寫手)
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[求助]
濺射硅靶的時候表面出現(xiàn)斑點
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最近射頻濺射硅靶的時候生長速度特別快，而且靶表面出現(xiàn)很多小坑，并且出現(xiàn)泛白的斑點，就是圖上紅圈內(nèi)的那些。并且原來濺射后整個靶表面都很光潔，呈鏡面反射，就像最中心那一塊一樣，現(xiàn)在最優(yōu)濺射區(qū)域濺射后發(fā)白，呈漫反射了。有誰知道是怎么回事嗎？PS：靶上面本來沒那些的小坑的，最近換靶頭之后變成這樣了。 對了，我的濺射條件是Ar氣氛，氣壓0.8Pa，濺射前的背底真空是5×10-4Pa。 1.jpg [ Last edited by linberg on 2012-11-5 at 16:44 ] |
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