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linberg木蟲 (正式寫手)
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[求助]
濺射硅靶的時(shí)候表面出現(xiàn)斑點(diǎn)
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最近射頻濺射硅靶的時(shí)候生長(zhǎng)速度特別快，而且靶表面出現(xiàn)很多小坑，并且出現(xiàn)泛白的斑點(diǎn)，就是圖上紅圈內(nèi)的那些。并且原來(lái)濺射后整個(gè)靶表面都很光潔，呈鏡面反射，就像最中心那一塊一樣，現(xiàn)在最優(yōu)濺射區(qū)域?yàn)R射后發(fā)白，呈漫反射了。有誰(shuí)知道是怎么回事嗎？PS：靶上面本來(lái)沒那些的小坑的，最近換靶頭之后變成這樣了。 對(duì)了，我的濺射條件是Ar氣氛，氣壓0.8Pa，濺射前的背底真空是5×10-4Pa。 1.jpg [ Last edited by linberg on 2012-11-5 at 16:44 ] |
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2樓2012-11-10 10:07:47
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4樓2012-11-12 19:26:31
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5樓2012-11-12 21:07:12
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【答案】應(yīng)助回帖
| 我倒覺得是你換靶頭造成的污染，就像你說(shuō)的，以前沒有，這期間你所做的就是換了靶頭，那么產(chǎn)生這樣的結(jié)果自然是換靶頭造成的污染。但具體為什么換靶頭就出現(xiàn)這些小黑點(diǎn)我就說(shuō)不清了，很有可能在換靶的時(shí)候Si靶表面就粘上了這些黑點(diǎn)。從你的照片上看，每個(gè)小黑點(diǎn)周圍都有一塊發(fā)白的圓斑，說(shuō)明黑點(diǎn)周圍的濺射更強(qiáng)，進(jìn)而說(shuō)明黑點(diǎn)處材料絕緣性能更強(qiáng)，從而其附近區(qū)域射頻自偏壓更高！ |
6樓2012-11-13 05:32:54
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