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317001626金蟲(chóng) (小有名氣)
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[求助]
光刻曝光之后有的地方有圖案，有的地方?jīng)]有 已有1人參與
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最近做光刻，做的是在大面積SiO2襯底上做出微米級(jí)的圖案，圖案均勻分布在襯底表面，可是曝光顯影之后發(fā)現(xiàn)有的地方有圖案而有的地方?jīng)]有，不知道為何。 甩膠低速５００轉(zhuǎn)／分�。叮螅桓咚伲玻常埃稗D(zhuǎn)／分�。玻埃� 前烘：１００度�。保埃恚椋睢 『蠛妫海保玻岸取。保埃恚椋� 曝光時(shí)間１５ｓ 顯影時(shí)間：１ｍｉｎ   |
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 yswyx的關(guān)于光刻的各種回復(fù) | 光刻工藝 |
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317001626
金蟲(chóng) (小有名氣)
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4樓2012-12-09 19:25:05
yswyx 
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【答案】應(yīng)助回帖
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感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
chemlh: 金幣+1, 歡迎積極交流 2012-12-10 08:48:33
nofrunolif: 金幣+1, 鼓勵(lì)專家跨版交流 2012-12-10 09:06:38
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沒(méi)圖案是什么意思？是光刻膠上沒(méi)有圖案，還是光刻膠都不見(jiàn)了？ 前者需要考察光刻膠有沒(méi)有曝光，主要關(guān)系到光刻機(jī)。 后者就是漂膠。石英襯底和一般的膠的粘附性不好，需要用HMDS增粘劑來(lái)表面改性，然后涂膠。 另外，你只列出了你的光刻工藝條件，并沒(méi)有列出你的光刻膠名稱和型號(hào)，所以那些條件通通沒(méi)有用。而且工藝條件描述的比較不完全，至少要列出設(shè)備是什么設(shè)備，以及工作模式。 |
2樓2012-12-09 18:23:34
317001626
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3樓2012-12-09 19:18:33
guody
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5樓2012-12-09 22:13:51
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