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317001626金蟲 (小有名氣)
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[求助]
光刻曝光之后有的地方有圖案，有的地方?jīng)]有 已有1人參與
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最近做光刻，做的是在大面積SiO2襯底上做出微米級的圖案，圖案均勻分布在襯底表面，可是曝光顯影之后發(fā)現(xiàn)有的地方有圖案而有的地方?jīng)]有，不知道為何。 甩膠低速５００轉(zhuǎn)／分 ６ｓ；高速２３００轉(zhuǎn)／分�。玻埃� 前烘：１００度 １０ｍｉｎ 后烘：１２０度�。保埃恚椋� 曝光時間１５ｓ 顯影時間：１ｍｉｎ   |
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【答案】應(yīng)助回帖
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nofrunolif: 金幣+1, 鼓勵專家跨版交流 2012-12-10 09:06:38
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沒圖案是什么意思？是光刻膠上沒有圖案，還是光刻膠都不見了？ 前者需要考察光刻膠有沒有曝光，主要關(guān)系到光刻機。 后者就是漂膠。石英襯底和一般的膠的粘附性不好，需要用HMDS增粘劑來表面改性，然后涂膠。 另外，你只列出了你的光刻工藝條件，并沒有列出你的光刻膠名稱和型號，所以那些條件通通沒有用。而且工藝條件描述的比較不完全，至少要列出設(shè)備是什么設(shè)備，以及工作模式。 |
2樓2012-12-09 18:23:34
317001626
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3樓2012-12-09 19:18:33
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4樓2012-12-09 19:25:05
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6樓2012-12-10 08:36:46
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9樓2012-12-14 08:49:12
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10樓2012-12-14 08:49:32
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