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317001626金蟲 (小有名氣)
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[求助]
光刻曝光之后有的地方有圖案,有的地方?jīng)]有 已有1人參與
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最近做光刻,做的是在大面積SiO2襯底上做出微米級的圖案,圖案均勻分布在襯底表面,可是曝光顯影之后發(fā)現(xiàn)有的地方有圖案而有的地方?jīng)]有,不知道為何。 甩膠低速500轉(zhuǎn)/分。叮螅桓咚伲玻常埃稗D(zhuǎn)/分。玻埃 前烘:100度。保埃恚椋睢 『蠛妫海保玻岸取。保埃恚椋 曝光時間15s 顯影時間:1min ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
yswyx的關(guān)于光刻的各種回復(fù) | 光刻工藝 |
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專家顧問 (著名寫手)
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專家經(jīng)驗: +651 |
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沒圖案是什么意思?是光刻膠上沒有圖案,還是光刻膠都不見了? 前者需要考察光刻膠有沒有曝光,主要關(guān)系到光刻機。 后者就是漂膠。石英襯底和一般的膠的粘附性不好,需要用HMDS增粘劑來表面改性,然后涂膠。 另外,你只列出了你的光刻工藝條件,并沒有列出你的光刻膠名稱和型號,所以那些條件通通沒有用。而且工藝條件描述的比較不完全,至少要列出設(shè)備是什么設(shè)備,以及工作模式。 |
金蟲 (小有名氣)
金蟲 (小有名氣)
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