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請(qǐng)教 xrd 表征摻雜樣品 峰位移動(dòng)由替代式轉(zhuǎn)為間隙式摻雜的峰位變化規(guī)律
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C替代O ,大離子替代小離子。 摻雜濃度低時(shí),遵循替代式摻雜,由布拉格公式衍射峰往低角度偏移;晶胞參數(shù)變大,晶胞變大; 摻雜濃度高時(shí),替代式摻雜,衍射峰往高角度偏移;晶胞參數(shù)變小,晶胞變; 我這種理解不知道有沒(méi)有問(wèn)題,另外,理論上我覺(jué)得行的通,但是在摻雜濃度高時(shí) 峰位的變化規(guī)律 沒(méi)有找到相應(yīng)的文獻(xiàn)佐證,還請(qǐng)推薦過(guò)量摻雜時(shí)(間隙摻雜時(shí))關(guān)于xrd討論的文獻(xiàn),謝謝。會(huì)繼續(xù)追加金幣。 |
榮譽(yù)版主 (知名作家)
愛(ài)思考的小強(qiáng)

木蟲(chóng) (著名寫(xiě)手)
金蟲(chóng) (著名寫(xiě)手)
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這是不是可以從另一個(gè)角度來(lái)看,要用到固體物理中的相圖概念。 你的摻雜,是引入了一個(gè)新的化學(xué)相,比如,某種金屬的氧化物與碳化物,他們的特征峰不盡相同,因此,這里會(huì)觀察到兩相,可以分峰擬合。在摻雜較低時(shí),作為替位或填隙缺陷,宏觀上,不影響整體的晶向,比如Ga摻雜ZnO,在Ga 占2wt.%的質(zhì)量分?jǐn)?shù)時(shí),只有ZnO (002)和(004)的相位。摻雜較高時(shí),會(huì)造成兩相分離,Ga2O3的相位出現(xiàn)。 您的情況,要看兩種化合物的特征峰,然后用相分離來(lái)分析。 |
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