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axing872880銅蟲 (小有名氣)
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[求助]
關(guān)于在colloidal lithography方法中PS球在PMMA襯底上分散不均勻的問題
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大家好,我是做微納和磁學(xué)、磁光的。 我用colloidal lithography方法做模版,然后再沉積金屬納米粒子。 在我做模版的過程中,碰到了這么個問題: 先說一下colloidal lithography的過程: 在玻璃上旋涂PMMA,然后用PDDA將表面正電荷charge(飽和),再把PS球溶液滴在上面,spin一會(速度低,不會將液滴甩出去),再用水沖干凈,最后N2吹干。 現(xiàn)在的問題是如果用高濃度的PS溶液,做出來的ps球均勻分散,但是低濃度的ps溶液,在PMMA上均勻性很差。 可能是因為高濃度時ps球之間有斥力,可以保證彼此之間力的平衡。 問題就是怎么提高低濃度時 ps球的均勻性? 謝謝各位蟲友。 [ Last edited by axing872880 on 2013-3-7 at 05:23 ] |

新蟲 (初入文壇)
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