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axing872880銅蟲 (小有名氣)
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[求助]
關(guān)于在colloidal lithography方法中PS球在PMMA襯底上分散不均勻的問題
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大家好，我是做微納和磁學(xué)、磁光的。 我用colloidal lithography方法做模版，然后再沉積金屬納米粒子。 在我做模版的過程中，碰到了這么個問題： 先說一下colloidal lithography的過程： 在玻璃上旋涂PMMA，然后用PDDA將表面正電荷charge(飽和），再把PS球溶液滴在上面，spin一會（速度低，不會將液滴甩出去），再用水沖干凈，最后N2吹干。 現(xiàn)在的問題是如果用高濃度的PS溶液，做出來的ps球均勻分散，但是低濃度的ps溶液，在PMMA上均勻性很差。 可能是因為高濃度時ps球之間有斥力，可以保證彼此之間力的平衡。 問題就是怎么提高低濃度時 ps球的均勻性？ 謝謝各位蟲友。 [ Last edited by axing872880 on 2013-3-7 at 05:23 ] |
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henryyyyy
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2樓2016-01-25 18:01:18
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