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小木蟲論壇-學術(shù)科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » 光刻膠烘烤工藝
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chc33新蟲 (初入文壇)
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[求助]
光刻膠烘烤工藝
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| 請問在光刻膠烘烤過程中是把片子直接放在熱板上好還是與熱板有一定的距離好？這兩種烘烤方法各有什么優(yōu)缺點？網(wǎng)上搜索了下有說直接放在熱板上的也有說要與熱板有一定的距離。望業(yè)內(nèi)人士指點，謝謝 |
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 光刻工藝 |
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junyao_0001
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3樓2013-03-27 16:30:40
Jackcd12
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2樓2013-03-27 16:22:58
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感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
yanhualover: MN-EPI+1, 全面解釋幾種烘烤方式 2013-03-27 20:23:24
chc33: 金幣+20, ★★★★★最佳答案 2013-03-29 18:47:40
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這個說起來其實很復雜。一般來說，要看你的光刻膠是厚膠還是薄膠。 對于普通薄膠而言，熱板烘烤是否有間隙是區(qū)別不大的，只是設(shè)定溫度有所不同。因為有了間隙以后，硅片上的溫度會偏離熱板的設(shè)定溫度，所以熱板要設(shè)定較高的溫度。但是薄膠一般對溫度敏感性高，尤其是高精度的光刻膠，所以基本采用接觸式的烘烤方式。 對于厚膠而言，有間隙的烘烤是有一定好處的。因為傳熱的速率會比較慢，光刻膠受熱升溫會比較緩慢，光刻膠烘干后應(yīng)力會小，對于光刻顯影后圖形結(jié)構(gòu)的機械性能有很好的幫助。但是有間隙的烘烤要求熱板的lift pin具有設(shè)定高度的功能，同時要求環(huán)境穩(wěn)定。一般實驗室沒有這個條件。 另外還有幾個方面的因素。有些時候片子會翹，熱板無法牢固的將片子吸平，所以需要有間隙，達到均勻的目的。還有些熱板表面不平整，或者真空槽道太寬，lift pin太大，都會影響烘烤均勻性，這時候可以考慮有間隙的烘烤。而對于像PEB這種對溫度非常敏感的烘烤過程，間隙式的烘烤方式是不贊成的，因為間歇式的溫度穩(wěn)定性不如接觸式的。 另外，在有熱板的情況下，不要使用烘箱來做烘烤。 1. 熱板的熱均勻性遠好于烘箱，烘箱的熱分布還是比較差的。 2. 烘箱一般要通風，很臟，即使真空烘箱也無法避免。 3. 烘箱是從外部對光刻膠加熱，容易形成硬殼，導致溶劑不易揮發(fā)，對厚膠尤其有害，應(yīng)力太大。 4. 烘箱烘烤時間長。 |
4樓2013-03-27 20:00:27
weibiming
木蟲 (小有名氣)
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5樓2013-03-28 00:42:29
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