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vwangvhaov木蟲 (小有名氣)
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Zata點位怎樣測~介孔二氧化硅表面修飾氨基！做過的請幫忙
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小弟最近做二氧化硅表面修飾氨基，在紅外譜圖上已經(jīng)看到了Si-OH峰的減少與N-H峰的出現(xiàn)，為什么去做zata點位的時候點位還是負(fù)的？？？ 是我制備樣品的問題？（將硅球分散到水中）或者是測zata點位時某些參數(shù)沒有調(diào)試好？（別人幫做，自己沒用過這個儀器） 請做過氨基修飾的朋友幫忙診斷下！ 請做過硅球Zata點位的朋友給個提示！ 小弟不勝感激�。�！ |
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| 表面有沒有修飾其他物質(zhì)，因為zeta電位測得是整個膠體溶液的電位值，不同的修飾劑之前可能會影響其值得正負(fù)，受濃度影響比較大。使用儀器測試時，要選對溶質(zhì)以及溶劑，也要選對所用的測試管。我做的是PEG以及PEI才（含有氨基）共同修飾的氧化鐵納米粒子，將修飾好的氧化鐵納米粒子分散到去離子水中，溶劑選的Water 溶質(zhì)選的是fe3o4。測得電位值一般都在30mV-35mV。 |
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vwangvhaov3樓2013-05-29 16:31:52
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| 在紅外譜圖上已經(jīng)看到了Si-OH峰的減少與N-H峰的出現(xiàn)，但是電荷為負(fù)，只能說明你修飾上去的氨基不夠多而已，如果想讓電荷變正，不妨將氨基化硅烷基試劑反應(yīng)時間以及投入量加大，還有就是樓主采用的是什么修飾方法，后修飾還是共水解？ |
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8樓2013-06-03 22:58:01
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15樓2013-10-17 10:06:51
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