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vwangvhaov木蟲 (小有名氣)
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[求助]
Zata點位怎樣測~介孔二氧化硅表面修飾氨基!做過的請幫忙
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小弟最近做二氧化硅表面修飾氨基,在紅外譜圖上已經(jīng)看到了Si-OH峰的減少與N-H峰的出現(xiàn),為什么去做zata點位的時候點位還是負的??? 是我制備樣品的問題?(將硅球分散到水中)或者是測zata點位時某些參數(shù)沒有調試好?(別人幫做,自己沒用過這個儀器) 請做過氨基修飾的朋友幫忙診斷下! 請做過硅球Zata點位的朋友給個提示! 小弟不勝感激!! |
月牙兒的百寶箱 | 硅 二氧化硅 |

木蟲 (正式寫手)
麥兜
| 表面有沒有修飾其他物質,因為zeta電位測得是整個膠體溶液的電位值,不同的修飾劑之前可能會影響其值得正負,受濃度影響比較大。使用儀器測試時,要選對溶質以及溶劑,也要選對所用的測試管。我做的是PEG以及PEI才(含有氨基)共同修飾的氧化鐵納米粒子,將修飾好的氧化鐵納米粒子分散到去離子水中,溶劑選的Water 溶質選的是fe3o4。測得電位值一般都在30mV-35mV。 |

新蟲 (初入文壇)
木蟲 (小有名氣)

木蟲 (正式寫手)
麥兜

木蟲 (小有名氣)
| 在紅外譜圖上已經(jīng)看到了Si-OH峰的減少與N-H峰的出現(xiàn),但是電荷為負,只能說明你修飾上去的氨基不夠多而已,如果想讓電荷變正,不妨將氨基化硅烷基試劑反應時間以及投入量加大,還有就是樓主采用的是什么修飾方法,后修飾還是共水解? |
木蟲 (小有名氣)
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