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[交流]
詢問電解雙噴減薄電解液的配方
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前些時候做了幾個涂層的截面TEM試樣(采用對粘法),涂層厚度在50微米左右,中間用M610膠,已經磨到30-40微米了,但再往下磨已經非常困難,很容易破壞試樣,且采用離子減薄方法,弄了4個小時都沒有成功!據說是太厚了,讓我繼續(xù)磨,我想幾乎不可能了,在外面做點實驗太難了。所以想到采用電解拋光(電解雙噴減。┖,再使用離子減薄。 我的試樣是,6061-T6鋁合金表面沉積的純鎳涂層,銅表面沉積的純鎳涂層,以及這兩種基體表面沉積的鈦涂層和鋅涂層; 希望各位幫忙,有經驗的提供關于電解拋光液的配方。主要是涂層較厚,而且與基體材料不一樣,能不能均勻減薄。 先行謝過了。 ![]() ![]() [ Last edited by ymxiong on 2007-10-15 at 09:48 ] |
金蟲 (正式寫手)
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我這有幾個電解拋光液配方,不知道怎么樣,僅供你參考。 Al Ni 合金成分 Ni 20-80% 電解液配方 Perchloric 5%; Butoxyethanol 20%; Methanol 75% 電解拋光實驗條件 5C, 37V, 50mA 備注:Very good, small change in voltage with composition. Al Mg 合金成分 Mg 3% 電解液配方 Perchloric 10%; Butoxyethanol 20%; Methanol 70% Al Si 合金成分 Si 0.2% 電解液配方 Nitric 33%; Methanol 67% 電解拋光實驗條件 -22C, 12.5V, 30mA 這些可能對6061-T60有用。 Cu Ni 合金成分 Spinodal 電解液配方 Nitric 33%; Methanol 67% 電解拋光實驗條件 -30C, 20V, 80mA |
金蟲 (正式寫手)
金蟲 (正式寫手)
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找了很久,這是Zn的。 Material: Zinc (Zn) Type: Polishing Method: Electropolishing Etchant (Electrolyte): 42 ml H2O, 810 ml CH3COOH, 150 g CrO3. Procedure: 3.5-80 V, 0.025-4 A/cm2. Water cooled, electrolyte not stirred; rinse specimen in ethanol. Remarks: For TEM sample preparation. Zinc. Reference: Practical Metallography, Vol. 12, No. 2, 1975, p. 73-77. |
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