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[交流]
詢問電解雙噴減薄電解液的配方
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前些時(shí)候做了幾個(gè)涂層的截面TEM試樣（采用對(duì)粘法），涂層厚度在50微米左右，中間用M610膠，已經(jīng)磨到30-40微米了，但再往下磨已經(jīng)非常困難，很容易破壞試樣，且采用離子減薄方法，弄了4個(gè)小時(shí)都沒有成功！據(jù)說是太厚了，讓我繼續(xù)磨，我想幾乎不可能了，在外面做點(diǎn)實(shí)驗(yàn)太難了。所以想到采用電解拋光（電解雙噴減�。┖�，再使用離子減薄。 我的試樣是，6061-T6鋁合金表面沉積的純鎳涂層，銅表面沉積的純鎳涂層，以及這兩種基體表面沉積的鈦涂層和鋅涂層； 希望各位幫忙，有經(jīng)驗(yàn)的提供關(guān)于電解拋光液的配方。主要是涂層較厚，而且與基體材料不一樣，能不能均勻減薄。 先行謝過了。   [ Last edited by ymxiong on 2007-10-15 at 09:48 ] |
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liurenci
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3樓2007-10-17 22:27:49
liurenci
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ymxiong(金幣+10,VIP+0):非常感謝提供有用信息！
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我這有幾個(gè)電解拋光液配方，不知道怎么樣，僅供你參考。 Al Ni 合金成分 Ni 20-80% 電解液配方 Perchloric 5%; Butoxyethanol 20%; Methanol 75% 電解拋光實(shí)驗(yàn)條件 5C, 37V, 50mA 備注：Very good, small change in voltage with composition. Al Mg 合金成分 Mg 3% 電解液配方 Perchloric 10%; Butoxyethanol 20%; Methanol 70% Al Si 合金成分 Si 0.2% 電解液配方 Nitric 33%; Methanol 67% 電解拋光實(shí)驗(yàn)條件 -22C, 12.5V, 30mA 這些可能對(duì)6061-T60有用。 Cu Ni 合金成分 Spinodal 電解液配方 Nitric 33%; Methanol 67% 電解拋光實(shí)驗(yàn)條件 -30C, 20V, 80mA |
2樓2007-10-17 21:31:41
liurenci
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ymxiong(金幣+5,VIP+0):真是有心人！非常感謝。
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找了很久，這是Zn的。 Material: Zinc (Zn) Type: Polishing Method: Electropolishing Etchant (Electrolyte): 42 ml H2O, 810 ml CH3COOH, 150 g CrO3. Procedure: 3.5-80 V, 0.025-4 A/cm2. Water cooled, electrolyte not stirred; rinse specimen in ethanol. Remarks: For TEM sample preparation. Zinc. Reference: Practical Metallography, Vol. 12, No. 2, 1975, p. 73-77. |
4樓2007-10-19 08:55:36
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