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王全龍ciomp木蟲 (著名寫手)
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[求助]
求助 濕法腐蝕二氧化硅 邊緣不光滑 求大家分析下原因 有圖
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主要工藝：1、清洗硅片。 2、120度2min烘干。 3、涂HMDS 3000rpm 40s。 4、勻膠 AZ701 3500rpm 50s （1um左右）。5、前烘95度1min熱板。6、曝光 EVG620。7、顯影 AZ300mif 浸泡在燒杯里 。8、堅(jiān)膜110度2min。9、HF緩沖液腐蝕 速率大約80nm/min 腐蝕20多分鐘。腐蝕完結(jié)果如圖一個(gè)直徑200um圓盤 邊緣總是不光滑有溝槽，該怎么辦大家?guī)臀蚁胂朕k法，先謝謝了。 腐蝕完14.jpg |
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王全龍ciomp
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8樓2013-06-28 21:32:11
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2樓2013-06-26 23:23:24
王全龍ciomp
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3樓2013-06-27 21:23:24
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4樓2013-06-27 23:03:13
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
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5樓2013-06-28 00:20:44
damuchongzi
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【答案】應(yīng)助回帖
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
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上面兩位說得感覺都沒說到點(diǎn)子上。~1.6um的氧化層用1um膠掩模且腐蝕20多分鐘（沒有多次堅(jiān)膜？），看你的圖片氧化硅腐蝕鉆蝕效果幾乎沒有，說明你腐蝕之前的各項(xiàng)的準(zhǔn)備控制的很好，氧化層質(zhì)量也不錯(cuò)。（順便問一下你的氧化層是LPCVD做的還是PECVD做的，做致密了嗎）�？梢宰⒁庖幌乱韵�2個(gè)方面： 1）在腐蝕之前O2等離子體掃一下底膜同時(shí)激活暴露的氧化硅表面。 2）BHF是用的什么樣的容器，最好用大的容器。如果較小且沒有攪拌，BHF中的氟化氨很容易結(jié)晶并附著造成腐蝕缺陷。 |
6樓2013-06-28 15:34:27
王全龍ciomp
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7樓2013-06-28 21:23:04
王全龍ciomp
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9樓2013-06-28 21:48:04
王全龍ciomp
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10樓2013-06-28 21:55:22
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