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王致遠(yuǎn)金蟲 (著名寫手)
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[求助]
詢問ZnO FET輸出特性曲線(Ids~Vds)有偏移的問題。
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資料 | 材料方面學(xué)習(xí) | 光電資源 |
木蟲 (初入文壇)
木蟲 (初入文壇)
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我做的FET也有這種現(xiàn)象,原因是氧化硅片的漏電流太大了,柵極電壓不僅僅提供電壓,還提供電流,從柵極流向源極和漏極。 以數(shù)字源表測量FET特性,Source接地,Drain施加掃描電壓Vds以及測量Ids,Gate施加固定偏壓Vgs以及測量Ig。 當(dāng)Vgs=0,且Vds=0時,顯然Ids=0。 當(dāng)Vgs>0,且Vds=0時,若SiO2層的絕緣效果不好(太薄,或者氧化不夠徹底,有針孔等),將產(chǎn)生從柵極流向源極的電流Igs>0,以及從柵極流向漏極的電流Igd>0,測量出的Ids=-Igs<0,這就是電流Ids為負(fù)值的原因。 此外,你可以測量一下柵極電流Ig(=Igd+Igs)比較一下Ids與Ig的大小,按你這圖的情況來看,應(yīng)該差不多,甚至可能Ig比Ids大,這樣?xùn)艠O的調(diào)控特性不明顯,測出來的FET特性不準(zhǔn)確。 好的FET器件,氧化硅片的漏電流比較好,至少在nA以下,最好Ids比Ig大100百倍以上,漏電流Ig的影響才可以忽略。 |
金蟲 (著名寫手)
木蟲 (小有名氣)

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