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so110木蟲 (正式寫手)
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[交流]
關(guān)于玻璃或鋁材研磨后清洗的相關(guān)問(wèn)題 已有10人參與
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玻璃清洗越來(lái)越火，最近也看到很多同行問(wèn)相關(guān)的問(wèn)題，特把自己做的一些工作拿來(lái)分享： 研磨拋光液介紹： 研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。一般研磨液用于粗磨，拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨液的下道工序，行業(yè)中也把拋光液稱為研磨液或把研磨液稱為拋光液的。 研磨液分類： 研磨液按其作用機(jī)理分：機(jī)械作用研磨液，化學(xué)機(jī)械作用研磨液。 機(jī)械作用的研磨液：以金剛石、B4C等為磨料，通過(guò)添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中，從而形成具有磨削作用的液體，稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布，利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理，實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況，研磨完成后，工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以，機(jī)械作用的研磨液一般用于粗磨，后續(xù)還需要精密研磨拋光。 化學(xué)機(jī)械作用研磨液：化學(xué)機(jī)械作用研磨液利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面，是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù)，它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機(jī)械作用研磨液又稱為化學(xué)機(jī)械拋光液(Chemical Mechanical Polishing,簡(jiǎn)稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下，被拋光工件相對(duì)于拋光墊作相對(duì)運(yùn)動(dòng)，借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機(jī)結(jié)合，在被研磨的工件表面形成光潔表面。 化學(xué)機(jī)械拋光液（CMP）根據(jù)磨料不同的分類： 二氧化硅研磨液，氧化鈰研磨液，氧化鋁研磨液等。 金剛石研磨液根據(jù)磨料不同的分類： 金剛石研磨液是由金剛石磨料與分散液組成，根據(jù)金剛石微粉的類型分為單晶金剛石研磨液、多晶金剛石研磨液和爆轟納米金剛石研磨液三種。 研磨后的問(wèn)題 不銹鋼、鋁材、玻璃等工件經(jīng)過(guò)研磨液處理后，需經(jīng)過(guò)清洗、烘干方能進(jìn)入下一工序。但是，由于研磨液體系穩(wěn)定性及研磨工藝的問(wèn)題，常會(huì)發(fā)生“工件研磨后在進(jìn)行清洗前，研磨液干枯在工件上，形成難以清洗的污垢，尤其是使用硅溶膠類型研磨液處理高光面時(shí)”。 針對(duì)二氧化硅研磨液干枯后的污垢，提供三種解決方法： 1、常規(guī)的，用含氟的清洗清除污垢。這種方法對(duì)人和設(shè)備都有傷害，而且不環(huán)保。 2、用二氧化硅研磨液，對(duì)含污垢的工件進(jìn)行二次研磨，研磨后盡快進(jìn)行清洗。這種方法對(duì)工藝和人員操作要求比較高，一般來(lái)說(shuō)，自動(dòng)化產(chǎn)線較難實(shí)現(xiàn)。 3、使用“研磨液添加劑（硅垢阻垢劑）” 。該藥劑，環(huán)保無(wú)害，可自然降解，按5-10%的體積比添加到研磨液的使用液中，不影響研磨效果，能有效防止研磨液污垢尤其是硅垢的形成。 在實(shí)際生產(chǎn)中，存在兩個(gè)問(wèn)題（目前發(fā)現(xiàn)兩個(gè)）限制了以上方法的使用： 1、部分工件如玻璃是不允許使用含氟清洗的； 2、最近本人遇到的，工件一面是拋光的，另一面是不需要拋光的凹凸面，大量的研磨液或研磨粉殘留在凹凸面上。 在存在以上問(wèn)題的生產(chǎn)中，使用研磨添加劑是有效的。最近研發(fā)出另一新的工藝來(lái)解決該問(wèn)題，從而消除客戶對(duì)添加劑影響研磨效果的擔(dān)心。 對(duì)于耐堿的材質(zhì)（玻璃、不銹鋼等），原液使用 WSY401B 清洗劑（堿性） 60-65度 超聲清洗3-5分鐘 即可； 對(duì)于鋁材的不耐腐蝕的材料，原液使用 WSY402B 清洗劑（中性） 90-95度 超聲清洗3-5分鐘 即可 技術(shù)不斷更新中！ 博客歡迎閱讀，不是轉(zhuǎn)載，是本人。 http://blog.sina.com.cn/s/blog_54499d5d01012t57.html 如有不當(dāng)，請(qǐng)同行指教。 |
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