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羅馬里奧

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[資源] 通過調(diào)控層狀結(jié)構(gòu)誘導(dǎo)的內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度來增強(qiáng)鹵氧化鉍的光催化活性（Bi3O4Cl）

控制晶面暴露已經(jīng)成為調(diào)控半導(dǎo)體光催化活性的一個(gè)重要手段。一般來說，對(duì)晶面效應(yīng)的傳統(tǒng)理解是半導(dǎo)體的光催化活性主要依賴于晶面有關(guān)的表面性質(zhì)。但是，最近的一些晶面研究發(fā)現(xiàn)晶面依賴的能帶結(jié)構(gòu)和電荷轉(zhuǎn)移途徑是影響光催化活性的主要因素，引起了我們對(duì)于晶面效應(yīng)的混亂認(rèn)識(shí)。因此，揭示晶面效應(yīng)對(duì)光活性影響的原因極其重要，而且這也是一個(gè)巨大的挑戰(zhàn)。
最近Nanoscale上發(fā)表了一篇通過調(diào)控通過調(diào)控層狀結(jié)構(gòu)誘導(dǎo)的內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度來增強(qiáng)鹵氧化鉍的光催化活性的文章，并被選為了“Hot article”。文章報(bào)道，Bi3O4Cl納米片更多的{001}晶面暴露可以誘導(dǎo)產(chǎn)生更強(qiáng)的內(nèi)電場(chǎng)，這有利于光生載流子的分離和轉(zhuǎn)移，從而增強(qiáng)光反應(yīng)活性。這些發(fā)現(xiàn)可以有效地揭示晶面對(duì)光反應(yīng)活性影響的深層次原因，也為光催化活性的調(diào)控提供了一個(gè)新的策略。
We prepared Bi3O4Cl single-crystalline nanosheets with high {001} facet exposure percentages and demonstrated that their photoreactivity strongly depended on the magnitude of the internal electric field (IEF), which was correlated with the {001} facet exposure percentage. More {001} facet exposure could induce the generation of stronger IEF, which favored the photogenerated charge separation and transfer, and thus enhancing the photoreactivity.

圖片1.jpg

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附件 1 : 2014-c3nr05246jSynthesis_and_internal_electric_field_dependent_photoreactivity_of_Bi3O4Cl_single-crystalline_nanosheets_with_high_{001}_facet_exposure_percentages.pdf

2014-03-08 16:41:29, 543.87 K

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1樓 2014-03-08 16:54:41

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羅馬里奧: 回帖置頂 2014-03-10 08:04:00

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3樓: Originally posted by miyanhappy at 2014-03-09 06:26:42
我也做相關(guān)工作沒看nanoscale這個(gè) 但是這個(gè)工作JACS上不是已經(jīng)有兩篇BiOCl的了么這個(gè)工作突出在哪里呢

按我的理解就是，以前的報(bào)道都是利用“內(nèi)電場(chǎng)”這個(gè)概念來解釋晶面暴露與光催化活性的關(guān)系，而這個(gè)工作是注重于調(diào)控內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度來增強(qiáng)光催化活性，是對(duì)以前工作的有益補(bǔ)充，鼓勵(lì)更多的策略來調(diào)控內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度，從而增強(qiáng)光催化活性

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9樓2014-03-09 15:07:09

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羅馬里奧: 回帖置頂 2014-03-10 14:38:33

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13樓: Originally posted by miyanhappy at 2014-03-10 13:54:50
看了啦就是增大001面的暴露面積真心要會(huì)寫故事啊我也做了這個(gè)工作但是看13年謝毅老師組的那個(gè)文章做到超薄之后主要強(qiáng)調(diào)不同的缺陷類型了就不知道自己的工作該怎么辦了...

謝毅老師那篇文章更強(qiáng)調(diào)納米片的厚度，好像已經(jīng)到了原子厚度的級(jí)別，厚度引起了缺陷類型的變化，再者是非水合成，所以容易出現(xiàn)缺陷；而這篇文章，不是非水合成，缺陷對(duì)其光催化活性的影響應(yīng)該會(huì)很小，三個(gè)納米片的暴露比例變化不是很大，但是光催化活性變化發(fā)生了很大的變化，所以內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度的變化應(yīng)該是影響其光催化活性變化的最主要要因。

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15樓2014-03-10 14:38:10

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我也做相關(guān)工作沒看nanoscale這個(gè) 但是這個(gè)工作JACS上不是已經(jīng)有兩篇BiOCl的了么這個(gè)工作突出在哪里呢

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3樓2014-03-09 06:26:42

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6樓2014-03-09 11:29:28

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6樓: Originally posted by zxf984 at 2014-03-09 11:29:28
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10樓2014-03-09 15:07:40

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9樓: Originally posted by 羅馬里奧 at 2014-03-09 15:07:09
按我的理解就是，以前的報(bào)道都是利用“內(nèi)電場(chǎng)”這個(gè)概念來解釋晶面暴露與光催化活性的關(guān)系，而這個(gè)工作是注重于調(diào)控內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度來增強(qiáng)光催化活性，是對(duì)以前工作的有益補(bǔ)充，鼓勵(lì)更多的策略來調(diào)控內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度，從而增 ...

看了啦就是增大001面的暴露面積真心要會(huì)寫故事啊我也做了這個(gè)工作但是看13年謝毅老師組的那個(gè)文章做到超薄之后主要強(qiáng)調(diào)不同的缺陷類型了就不知道自己的工作該怎么辦了

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13樓2014-03-10 13:54:50

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