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wye616金蟲 (初入文壇)
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[求助]
關(guān)于薄膜樣的XRD測試 已有2人參與
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硅片上沉積了Au,在沉積了想要測試的薄膜樣品，保守估計有50nm+的厚度，100應(yīng)該也可以達(dá)到 先做了最基本的XRD測試，發(fā)現(xiàn)Si和Au的信號特別強，但是又跟標(biāo)準(zhǔn)卡片的角度有點偏差（不排除再沉積的樣品與Au相互作用？），有個樣品Si強度有760000…… 所以就想求教下各位： 是再做裸Si 或者鍍過Au的Si后的XRD，扣減下譜峰強度對照角度比較現(xiàn)實？ 還是做個掠入射XRD好呢？ 另外，關(guān)于掠入射XRD測試厚度是多少呢？ 非常感謝各位！ |
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nwnu
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6樓2014-04-01 10:02:05
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