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wu3tian新蟲 (小有名氣)
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求XPS高手指教：CeO2立方體和八面體O1s譜圖，咋晶格氧的峰這么小 已有1人參與
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二氧化鈰CeO2立方體和八面體負(fù)載1%的Pt,400攝氏度燒過，然后又在400℃通流動air或H2來氧化還原 H指還原過的，O指氧化過的，無論氧化還是還原均在反應(yīng)氣氛中降至室溫，暴露在空去中，拿去測XPS。 為啥氧化過的樣品晶格氧峰咋這么小啊，感覺跟文獻對不上？XPS不是表征表面以下幾個nm嗎，晶格氧怎么著都該占主要啊？ 我是想說octahedra的氧結(jié)合能大，更接近氧化硅氧化鋁等惰性載體，能這么說不？ 各位前輩有沒有看到解釋這種情況的文獻��？ |
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2樓2014-03-26 16:23:18
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3樓2014-03-26 19:26:21
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8樓2014-04-04 05:53:49
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