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wu3tian新蟲(chóng) (小有名氣)
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[求助]
求XPS高手指教：CeO2立方體和八面體O1s譜圖，咋晶格氧的峰這么小 已有1人參與
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二氧化鈰CeO2立方體和八面體負(fù)載1%的Pt,400攝氏度燒過(guò)，然后又在400℃通流動(dòng)air或H2來(lái)氧化還原 H指還原過(guò)的，O指氧化過(guò)的，無(wú)論氧化還是還原均在反應(yīng)氣氛中降至室溫，暴露在空去中，拿去測(cè)XPS。 為啥氧化過(guò)的樣品晶格氧峰咋這么小啊，感覺(jué)跟文獻(xiàn)對(duì)不上？XPS不是表征表面以下幾個(gè)nm嗎，晶格氧怎么著都該占主要�。� 我是想說(shuō)octahedra的氧結(jié)合能大，更接近氧化硅氧化鋁等惰性載體，能這么說(shuō)不？ 各位前輩有沒(méi)有看到解釋這種情況的文獻(xiàn)��？ |
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wu3tian: 金幣+5, ★★★很有幫助, 非常感謝 2014-03-27 22:36:18
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表面有charging，或者有一層很厚的其他污染物，不知全譜是否掃過(guò)， C1s 強(qiáng)嗎？峰位校正了嗎？ PS: CeO2的氧空位密度(111)<(100)<(110)，間接說(shuō)明你的想法方向是對(duì)的。但你需要證據(jù)。 |
wu3tian
5樓2014-03-27 10:21:08
wu3tian
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2樓2014-03-26 16:23:18
wu3tian
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3樓2014-03-26 19:26:21
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4樓2014-03-26 22:07:03
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