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硅基金電極的刻蝕液選擇 已有1人參與
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我做了一個硅基鍍金片,用光刻將金電極圖案做出來了,采用KI+I2+H2O的刻蝕液將多余金去除,用萬用表測量后發(fā)現(xiàn)電極是導通的,可能是在金膜下面還有一層過渡金屬鉻或鈦,我現(xiàn)在已經(jīng)將光刻膠去除過了。 想問下: 1)去除鉻選擇什么刻蝕液,刻蝕速率如何控制? 2)去除鈦選擇什么刻蝕液,速率能否控制? 3)我刻蝕金后將光刻膠用丙酮去除了,現(xiàn)在刻蝕上面兩種金屬需要重新做光刻嗎? |
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