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讀書(shū)湖朱哥新蟲(chóng) (初入文壇)
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[求助]
硅基金電極的刻蝕液選擇 已有1人參與
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我做了一個(gè)硅基鍍金片，用光刻將金電極圖案做出來(lái)了，采用KI+I2+H2O的刻蝕液將多余金去除，用萬(wàn)用表測(cè)量后發(fā)現(xiàn)電極是導(dǎo)通的，可能是在金膜下面還有一層過(guò)渡金屬鉻或鈦，我現(xiàn)在已經(jīng)將光刻膠去除過(guò)了。 想問(wèn)下： 1）去除鉻選擇什么刻蝕液，刻蝕速率如何控制？ 2）去除鈦選擇什么刻蝕液，速率能否控制？ 3）我刻蝕金后將光刻膠用丙酮去除了，現(xiàn)在刻蝕上面兩種金屬需要重新做光刻嗎？ |
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2樓2014-04-18 18:06:33
Tabris_L
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3樓2016-03-24 21:15:46
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4樓2017-11-02 11:27:43
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5樓2017-11-02 11:29:19
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3. 不用重新做光刻，專(zhuān)用刻蝕液只針對(duì)特定金屬刻蝕，金層不會(huì)被刻蝕，但要控制刻蝕速率，不然側(cè)蝕會(huì)很?chē)?yán)重 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶(hù)端 |
6樓2017-11-02 11:31:37
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