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GaAs片上光刻失敗后，襯底二次利用，但是出現(xiàn)了漂膠！怎么辦？ 已有2人參與
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如題所述，光刻膠用的是shipley -9912正性光刻膠。 光刻失敗的GaAs片的處理方式是： 1、丙酮 超聲15min ；異丙醇 超聲15敏；去離子水清洗40遍 我用光學(xué)顯微鏡在100X下觀察，還是有殘膠，于是用棉簽沾著丙酮又擦了擦片子，而后重復(fù)1的步驟。 2、熱板120℃，30min加熱。 3、勻膠1300rpm/10s, 甩膠4500rpm/40s 結(jié)果居然漂膠了�。。� 另外，我之前剛剛拿到新的襯底片時(shí)，顯影大概在10s就會(huì)出圖案，而且比較均勻；但是將曝光過的GaAs片 二次利用是就出現(xiàn)了上面的問題。 PS：在用新的GaAs襯底片實(shí)驗(yàn)時(shí)，濕度大概在50~60； 使用二次利用的GaAs襯底片時(shí)，濕度會(huì)大一些，（最近老下雨）。 濕度的影響會(huì)這么大嗎？ |
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8樓2014-06-20 02:53:55
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10樓2019-07-16 10:33:37
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