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GaAs片上光刻失敗后,襯底二次利用,但是出現(xiàn)了漂膠!怎么辦? 已有2人參與
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如題所述,光刻膠用的是shipley -9912正性光刻膠。 光刻失敗的GaAs片的處理方式是: 1、丙酮 超聲15min ;異丙醇 超聲15敏;去離子水清洗40遍 我用光學顯微鏡在100X下觀察,還是有殘膠,于是用棉簽沾著丙酮又擦了擦片子,而后重復1的步驟。 2、熱板120℃,30min加熱。 3、勻膠1300rpm/10s, 甩膠4500rpm/40s 結(jié)果居然漂膠了。! 另外,我之前剛剛拿到新的襯底片時,顯影大概在10s就會出圖案,而且比較均勻;但是將曝光過的GaAs片 二次利用是就出現(xiàn)了上面的問題。 PS:在用新的GaAs襯底片實驗時,濕度大概在50~60; 使用二次利用的GaAs襯底片時,濕度會大一些,(最近老下雨)。 濕度的影響會這么大嗎? |
金蟲 (正式寫手)

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