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[求助]
分子印跡用MS來篩選單體
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請教各位：我現(xiàn)在在用MS軟件篩選分子印跡所需的功能單體，遇到的最大問題就是不知道怎么建模，由于模板分子可能形成氫鍵的位置比較多，而且還需要考慮模板分子與功能單體的不同比例，通過氫鍵結(jié)合后的復(fù)合物形式比較多，無從下手。查閱文獻(xiàn)的話，文獻(xiàn)中對建模問題很少提及，大多都是對數(shù)據(jù)結(jié)果的分析，感覺重復(fù)他們的過程有點(diǎn)難度。 由于課題組沒人用過這個軟件，苦于沒人交流，一個人閉門造車了蠻久還是不太懂，所以拜托各位能夠指點(diǎn)下迷津，小弟感激不盡！  |
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2樓2014-07-17 17:23:57
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