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夏閑諾新蟲 (初入文壇)
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[求助]
如何通過建模來分析發(fā)光薄膜的發(fā)光強(qiáng)度
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我采用了電子束蒸鍍的技術(shù)在基底沉積了一層摻銪的氧化釔發(fā)光薄膜,沉積過程中改變了電子束電流,靶基距,沉積時間,因此導(dǎo)致了薄膜發(fā)光亮度的變化,所以我導(dǎo)師讓我看能不能建立相關(guān)模型來分析這種規(guī)律(發(fā)光強(qiáng)度受沉積條件的影響),其實(shí)我自己想應(yīng)該是有關(guān)薄膜厚度和發(fā)光強(qiáng)度的模型吧。 還有就是對于一種沉積條件下獲得的薄膜我還研究了退火工藝對發(fā)光強(qiáng)度的影響(退火后,發(fā)光薄膜出現(xiàn)了慘痛的裂紋),這也需要通過模型對數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。 可是我真的不知道如何下手,完全不懂 ![]() 目前腦海里面就是想,Y2O3:Eu3+的發(fā)光主要還是銪離子受激發(fā)后電子能級之間的躍遷,最后由電子從激發(fā)態(tài)返回基態(tài)時發(fā)光,也就是說發(fā)光強(qiáng)度的大小主要是受到多少電子的躍遷吧,籠統(tǒng)來說就是建立這兩者之間的一個關(guān)系式,可是覺得那不是一般的難啊 ![]() ![]() 完全沒有頭緒,不知道能不能走建模這條路哪位高手幫忙支支招吧,萬分感激啊! |
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