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夏閑諾新蟲 (初入文壇)
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[求助]
如何通過建模來分析發(fā)光薄膜的發(fā)光強(qiáng)度
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我采用了電子束蒸鍍的技術(shù)在基底沉積了一層摻銪的氧化釔發(fā)光薄膜，沉積過程中改變了電子束電流，靶基距，沉積時(shí)間，因此導(dǎo)致了薄膜發(fā)光亮度的變化，所以我導(dǎo)師讓我看能不能建立相關(guān)模型來分析這種規(guī)律（發(fā)光強(qiáng)度受沉積條件的影響），其實(shí)我自己想應(yīng)該是有關(guān)薄膜厚度和發(fā)光強(qiáng)度的模型吧。 還有就是對于一種沉積條件下獲得的薄膜我還研究了退火工藝對發(fā)光強(qiáng)度的影響（退火后，發(fā)光薄膜出現(xiàn)了慘痛的裂紋），這也需要通過模型對數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。 可是我真的不知道如何下手，完全不懂  目前腦海里面就是想，Y2O3：Eu3+的發(fā)光主要還是銪離子受激發(fā)后電子能級之間的躍遷，最后由電子從激發(fā)態(tài)返回基態(tài)時(shí)發(fā)光，也就是說發(fā)光強(qiáng)度的大小主要是受到多少電子的躍遷吧，籠統(tǒng)來說就是建立這兩者之間的一個(gè)關(guān)系式，可是覺得那不是一般的難啊 完全沒有頭緒，不知道能不能走建模這條路哪位高手幫忙支支招吧，萬分感激��！ |
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2樓2014-10-09 16:58:33
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