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FP腔三層結構：底層高反Al，中層透明介質(zhì)，頂層帶納米圖案的Cu層，模擬透過現(xiàn)象
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大家好！繼續(xù)先前的相關模擬。采用comsol4.4，三層結構：底層高反Al，中層透明介質(zhì)（激光材料作為FP腔材料），頂層帶納米圖案的介質(zhì)層，port 1 端口放在底層和中層的界面上，波矢k豎直向上，TE波，port 2 置于頂層的外邊界面。周期邊界，頂層外加PML，模擬透過現(xiàn)象，對頻率參數(shù)化掃描。建模完成，計算，無報錯。但也沒得到理想的結果（透過率為零）。 問題：1. 建模時未采用先計算背景場，再計算全場，是否可行？因為激光材料處于結構中間層，底層不透光，沒想到怎樣設置才能先計算背景場，再計算全場。 2.comsol4.4中，在port端口設置時，若勾上activate slit conditon on the interior port boundary，則可選擇內(nèi)部邊界。這個版本的port端口可否像如上設置？ 3. 有模擬過類似結構的蟲友嗎？希望能向你們學習學習。 謝謝！ |
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5樓2019-07-09 17:04:45
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:-) [ 發(fā)自小木蟲客戶端 ] |
2樓2014-10-13 13:19:36
3樓2014-10-13 23:59:50
4樓2018-03-06 14:09:08
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