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關于Ag納米片的晶面問題
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| 我合成了一個Ag納米片復合材料,基底是MnO2納米棒,結果HRTEM顯示Ag納米片的底面的晶面間距是0.2nm,對應的是Ag的{100}晶面。可是文獻里面都說用PVP作為表面活性劑時,得到Ag的納米片的主晶面是{111},因為PVP會優(yōu)先吸附在{100}晶面上,從而抑制{100}晶面的生長。這到底是為什么?我應該沒有量錯,確實是0.2nm。求高手幫幫我,感激不盡。。! |
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